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食品加工・製造業における殺菌工程への超高磁場の応用

データ
文献番号 889
文献名 食品加工・製造業における殺菌工程への超高磁場の応用
英文名 ---
雑誌名 ネスレ科学振興会年報 Vol.1995 No.2 (44‐53)
掲載年 1995
著者 奥野和政 土屋耕治
発行機関 ---
概要

テスラ(1万ガウス)レベル超高磁場の各種細菌への作用を検討した。超高磁場はぶどう球菌,腸炎ビブリオ,サルモネラ菌の定常期の死滅を低減させたが大腸菌の増殖を若干阻害し,枯草菌の芽胞形成を顕著に阻害した。サルモネラ菌,大腸菌のDNA損傷誘発,変異原性の影響は見られず,プラスミド状DNA損傷誘発もなかった。

データ
HACCP手法の観点からみた本文献の概要

パルス状のテスラレベル変動磁場印加による殺菌は、変動磁場印加による菌体膜表面の過大な誘導電流の発生よるといわれている。今回行った、変動超高磁場条件(5.2〜6.1テスラの勾配磁場領域における120spmの浸とう培養、3.2〜6.7テスラの勾配磁場領域における40spmの振とう培養)では種々の微生物の死滅は促進されないこと、さらに超高磁場印加培養では突然変異株やDNA損傷が生じないことが判明した。

危害情報 危害情報272・生物的危害 腸炎ビブリオ その他
危害情報273・生物的危害 サルモネラ その他
危害情報274・生物的危害 病原大腸菌 その他
危害情報275・生物的危害 ブドウ球菌 その他


(注)本サイトは情報紹介を目的としておりますので、詳細につきましては原本や発行機関等でお調べください。

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